Die Lösung, die Samsung und TSMC heute einsetzen (mT)

DT, Sonntag, 09.11.2025, 23:56 (vor 26 Tagen) @ Brutus2710 Views
bearbeitet von DT, Montag, 10.11.2025, 00:21

um hohe Feldstärken auf kürzeste Längenskalen (einstellige Nanometer-Dimensionen) zu isolieren,
ist Atomic Layer Deposition (ALD), mit HfO2 etc.

Sogenannte High-k dielectrics. Auch ZrO2 ist möglich,
https://en.wikipedia.org/wiki/High-%CE%BA_dielectric

Die Technologie wurde in Finnland zur Marktreife entwickelt in Aalto und Helsinki und von Picosun und Beneq vermarktet.

Vergiß die DDR Technologie.

DT


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