Eine EUV Lithographiemaschine hat keine "Linsen". (mT)
Auch keine "Linesen". Sie hat Spiegel.
https://image.all-electronics.de/692401.webp?imageId=692401&width=960&height=60...
https://patents.google.com/patent/US20070283591A1/en?oq=US20070283591A1
Denn bei 13.5 nm bekommst Du kein "Licht" (fast schon soft x-ray Strahlung) mehr durch Glas, das macht (bei fused silica) spätestens bei 180 nm zu. CaF2 geht noch ein bisschen weiter runter, hat aber Doppelbrechung. Damit war nix mit dem 157 nm node.
DT