um hohe Feldstärken auf kürzeste Längenskalen (einstellige Nanometer-Dimensionen) zu isolieren,
ist Atomic Layer Deposition (ALD), mit HfO2 etc.

Die Technologie wurde in Finnland zur Marktreife entwickelt in Aalto und Helsinki und von Picosun und Beneq vermarktet.

Vergiß die DDR Technologie.

Und das Argument "wurde aber als Ossi-Forschung im weiteren nicht beachtet" ist Bullshit. Wenn Du selber in der High-Tech Entwicklung tätig wärest, wüßtest Du, daß es vollkommen schnuppe ist, wo eine Technologie herkommt, solange sie ein wichtiges Problem löst.

Ein weiteres Gegenbeispiel bzgl. Technologie aus dem Ostblock:

Die ersten gechirpten Spiegel kamen vom KFKI in Budapest/Ungarn und Ferenc Krausz hat sie benutzt, um seine Ultrakurzzeitlaser aufzubauen (auch er kommt aus Ungarn). Später hat ihm das den Nobelpreis für die Attosekunden-Pulse eingebracht. US und andere Laserfirmen haben die Technologie eingesetzt, weil sie ihre Probleme gelöst hat. Es war völlig egal, daß die Technologie aus Ungarn kam, und niemand hat sie ignoriert, nur weil "Ossi-Forschung im weiteren nicht beachtet" würde.

DT